技術(shù)編號：2789764
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及通過將涂覆有涂覆液的被處理基板放置在減壓環(huán)境下，在上述基板上的涂覆膜上實(shí)施干燥處理的減壓干燥方法和減壓干燥裝置。背景技術(shù)例如，在FPD (平面顯guran示器)的制造中，通過所謂的光刻工序形成電路圖案。上述光刻工序，具體來說如下進(jìn)行。首先，在玻璃基板等的被處理基板上形成規(guī)定的膜后，形成涂覆作為涂覆液的光致抗蝕劑(以下，稱為抗蝕劑)的抗蝕劑膜，接著，對應(yīng)于電路將圖案的抗蝕劑膜曝光，對其進(jìn)行顯影處理。這樣的光刻工序，如圖8(a)所示使抗蝕劑圖案R具有...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。