技術(shù)編號：2790700
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明的實施例大體涉及微光刻掩模及系統(tǒng)，且涉及形成所述掩模的方法。更特定來說，本發(fā)明的實施例大體涉及使用微光刻掩模及系統(tǒng)中的輔助特征來改進(jìn)使用所述微光刻掩模及系統(tǒng)形成的主要特征的清晰度。背景技術(shù)將數(shù)目增加的離散裝置(例如，晶體管、導(dǎo)電線、導(dǎo)電接觸墊等)并入到逐漸變小的集成電路中在例如存儲器裝置及電子信號處理器等半導(dǎo)體裝置的制造中仍為重要的挑戰(zhàn)。許多此類離散裝置是使用微光刻制作的。簡單且概括地說，在光刻工藝中，形成此項技術(shù)中通常稱為“掩模”的光刻掩模，其包含...
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