技術(shù)編號：2795936
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于微納加工領(lǐng)域，具體涉及一種雙固化型的納米壓印傳遞層材料。 背景技術(shù)納米壓印技術(shù)(已公開美國專利US6180239)是上世紀(jì)九十年代中期美國 Princeton大學(xué)Nanostructure Lab的Y. Chou教授針對傳統(tǒng)的光刻工藝受到曝光波長的限制，已經(jīng)達(dá)到制備微小結(jié)構(gòu)的極限廣30nm)，無法進(jìn)一步獲得更小的尺寸，而提出了類似于高分子模壓的一種技術(shù)，并且成功證明通過這一技術(shù)可以在半導(dǎo)體硅片上獲得尺寸小于IOnm的結(jié)構(gòu)單元。納米壓印是一種物理接...
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