技術(shù)編號：2796272
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及，屬于光刻機配置參數(shù)協(xié)同優(yōu)化設(shè)計領(lǐng)域背景技術(shù)光學(xué)光刻是光刻機用光學(xué)投影曝光的方法將掩模板上的電路器件結(jié)構(gòu)圖形刻蝕到硅片上的過程。光刻機主要由光源、照明系統(tǒng)、掩模臺、投影物鏡以及硅片工件臺五部分組成。為了實現(xiàn)良好的光刻性能，達到較大的光刻焦深，需要合理配置光刻機各部分參數(shù)， 如投影物鏡數(shù)值孔徑NA的大小、照明相干因子Sigma的值、偏振光類型、光刻膠厚度以及掩模Bias大小等。評價光刻性能的指標(biāo)主要有圖形對比度Contrast、歸一化對數(shù)斜率NIL...
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