技術(shù)編號(hào)：2796767
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及適用于半導(dǎo)體元件等制造工序中的微加工技術(shù)，尤其是作為適于光刻法的用作化學(xué)》文大抗蝕劑材料而有用的光產(chǎn)酸劑以及構(gòu)成該光產(chǎn)酸劑的含氟石黃酸鹽(例如，含氟磺酸鐵鹽)或含有含氟磺酸基的化合物(例如含氟磺酸)。此外，本發(fā)明涉及特征在于含有該光產(chǎn)酸劑的抗蝕劑組合物和 <吏用該抗蝕劑組合物的圖案形成方法。背景技術(shù)近年來，隨著LSI的高集成化和高速化，圖案規(guī)則的孩￡細(xì)化急速發(fā)展。在該背景下存在曝光光源的短波長化，例如，通過從水銀燈的i射線(365nm)向K...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。