技術(shù)編號：2796769
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及使用在主鏈上含有萘衍生物的樹脂所形成的涂布型下層膜以及用于形成該涂布型下層膜的形成涂布型下層膜的組合物。 利用本發(fā)明的形成涂布型下層膜的組合物，可以不與涂布型下層膜的上層部發(fā)生混合，可以形成良好的光致抗蝕劑的圖形形狀。 可以對本發(fā)明的形成涂布型下層膜的組合物賦予有效地抑制從基板的反射的性能，也可以兼具作為防反射膜的效果。 利用本發(fā)明的形成涂布型下層膜的組合物，可以提供具有接近光致抗蝕劑的干蝕刻速度的選擇比、低于光致抗蝕劑的干蝕刻速度的選擇比、低于...
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