技術(shù)編號：2796794
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及特別地可用于使厚膜成像的光敏光致抗蝕劑組合物， 它包括成膜的堿不溶性樹脂、生產(chǎn)強酸的光致產(chǎn)酸劑、溶劑和可光漂 白的染料，所述可光漂白的染料在與光致產(chǎn)酸劑相同的輻射下吸收且 優(yōu)選具有與光致產(chǎn)酸劑類似或比其低速的光漂白。優(yōu)選地，光致抗蝕劑膜的厚度大于2微米(m m)。本發(fā)明進一步提供涂布本發(fā)明的光敏組 合物并使之成像的方法。技術(shù)背景光致抗蝕劑組合物用于制造小型化電子組件的微型平版印刷 (microlithography)方法，例如用于制造計算機芯片和...
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