技術(shù)編號：2803573
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于微納電子器件加工及微納電子機械系統(tǒng)加工工藝領(lǐng)域，具體涉及一種采用紫外線固膠的電子束曝光工藝方法。背景技術(shù)隨著微電子工藝向納米量級的拓展，電子束直寫曝光工藝成為納電子器件及納機電系統(tǒng)加工工藝的重要組成部分。電子束曝光工藝以其可控性好、精度高、靈活性強等優(yōu)點，廣泛應(yīng)用于新器件研發(fā)，新結(jié)構(gòu)制造等科研領(lǐng)域，并逐步應(yīng)用于成規(guī)模的工業(yè)化批量生產(chǎn)。但是，由于鄰近效應(yīng)的存在，以及電子的高斯分布狀態(tài)，決定了在電子束曝光工藝中，獲得切底的光刻膠結(jié)構(gòu)是非常困難的。能否...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。