技術(shù)編號：2804249
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及微電子、光電子器件制備等微納加工領(lǐng)域的光刻機，特別涉及一種基于導(dǎo)模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光柵光刻機。背景技術(shù)光刻技術(shù)是一種精密的微納加工技術(shù)?，F(xiàn)有的無掩模表面等離子體亞波長光刻技術(shù)主要存在刻寫的光柵深度淺，激發(fā)光偏振僅限于TM偏振等等不足。這種光刻手段在實際應(yīng)用中都有著局限性。其主要存在的問題為1、光柵深度淺，由于表面等離子波的穿透深度很小，故很難刻寫出深度較深的亞波長光柵，這影響了光柵的應(yīng)用。2、激發(fā)光偏振模式單一,無掩模表面等離子體亞...
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