技術(shù)編號：2804532
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及正型抗蝕劑組合物，及更明確地涉及使用的波長不大于200nm、特別是ArF受激準分子激光器的化學增強正型抗蝕劑組合物。背景技術(shù) 迄今為止，對KrF受激準分子激光器(248nm)顯示高透明度的聚羥基苯乙烯或其衍生物，一直被用作化學增強抗蝕劑的基本樹脂組分，其中羥基被可酸離解的、抑制溶解的基團所保護。然而目前半導體元件的小型化還將進一步發(fā)展，因此激烈地追求發(fā)展使用ArF受激準分子激光器(193nm)的方法。使用ArF受激準分子激光器作光源的方法時，含有...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。