技術(shù)編號：2807899
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光化射線敏感或輻射敏感樹脂組合物，由該組合物形成的膜，以及使用該組合物形成圖案的方法。更具體地，本發(fā)明涉及在例如IC等半導(dǎo)體制造工藝、液晶電路板制造工藝、熱敏頭等或其他光加工光刻工藝中使用的組合物，并涉及由該組合物形成的膜以及使用該組合物形成圖案的方法。特別地，本發(fā)明涉及適合使用以波長為300nm或更短的遠(yuǎn)紫外線作為光源的投影曝光裝置進行曝光的光化射線敏感或輻射敏感樹脂組合物，并涉及由該組合物形成的膜以及使用該組合物形成圖案的方法。 背景技術(shù)迄今...
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