技術編號：2808487
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種用于浸沒式光刻機的浸沒控制裝置，特別是涉及一種在投影透鏡組(Lens)和硅片(Wafer)之間設置的浸沒控制裝置。 背景技術現(xiàn)代光刻設備以光學光刻為基礎，它利用光學系統(tǒng)把掩膜版上的圖形精確 地投影并曝光到涂過光刻膠的硅片上。它包括一個激光光源、 一個光學系統(tǒng)、 一塊由芯片圖形組成的投影掩膜版、 一個對準系統(tǒng)和一個覆蓋光敏光刻膠的硅 片。浸沒式光刻機在投影透鏡組和硅片之間的縫隙中填充某種液體，通過提高 該縫隙中介質的折射率(n)來提高投影透鏡的...
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