技術編號：2809442
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種具有大行程調節(jié)功能的調平調焦機構，尤其涉及一種具 有大行程調節(jié)功能的硅片臺調平調焦機構。背景技術整場調焦調平一般是在硅片表面3個或3個以上不同位置處進行離焦量 測量，來計算并校正整個硅片表面的離焦量和傾斜量，實質就是在坐標系中 調節(jié)6x, 6y和Z向三個自由度，(其中6x是繞X軸的轉動，6 y是繞Y軸的轉動)，達到硅片調焦調平的目的。專利US005204712A公開了一個3自由度的微動臺。該臺的基本原理是通 過三組凸輪機構，分布在三個點上，三...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。