技術(shù)編號:2814790
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及芯片制造過程中所使用的光刻掩模版的圖形檢驗領(lǐng)域。尤其是指便于 光刻掩膜版圖形檢驗的菲林片。背景技術(shù)在芯片制造過程中最核心的環(huán)節(jié)就是光刻,光刻的原理就是利用光敏材料將掩模版 上的圖形轉(zhuǎn)移到制造芯片的材料上,利用光敏材料上形成的圖形作為保護層繼而進行后續(xù) 的加工制造。芯片的制造過程中要進行多次光刻作業(yè),各道光刻所使用的光刻掩模版的圖形是不 同的,在光刻過程中,各道掩模版都要依照上一道或幾道掩模版制作出的圖形進行對位, 如果光刻掩模版圖形有偏差,將...
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