技術編號：2816065
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明總體涉及微光刻曝光裝置中照明掩模的照明系統(tǒng)。更具體而言， 本發(fā)明涉及包括反射元件陣列的這樣的照明系統(tǒng)，其可以被實現(xiàn)為微機電系 統(tǒng)(microelectro-mechanical system MEMS ),具體地為H字孩i4竟裝置(digital micromirror device DMD )。背景技術微光刻(也稱作光學光刻或僅稱作光刻)是用于制作集成電路、液晶顯 示器和其它的微結構裝置的技術。更具體地，與蝕刻工藝相結合的微光刻的 工藝用于構圖形成...
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