技術(shù)編號：2817516
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體廠的回收系統(tǒng)，特別涉及氫氧化四曱銨(TMAH)顯影 液的回收系統(tǒng)與方法。背景技術(shù)一般微影制程主要涉及光阻層的曝光與顯影步驟。當(dāng)光阻層經(jīng)由光罩微 影轉(zhuǎn)移圖案后，則利用堿性顯影液與經(jīng)曝光的有機(jī)酸性光阻層形成酸堿中和 反應(yīng)而溶解，留下未經(jīng)曝光的光阻層結(jié)構(gòu)。有機(jī)堿氫氧化四曱銨 (tetra-methyl-ammonia hydroxide, TMAH)則為常見的堿性顯影液之一。而對于制造廠而言，由于顯影步驟后，其排放液中仍以堿性顯影劑為主， 為了環(huán)...
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