技術編號：2818369
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種重力補償器，特別涉及一種光刻技術中的重力補償器。 背景技術近代半導體科技發(fā)展迅速，其中光刻技術扮演了重要的角色。光刻技術在 半導體的應用上，是將設計好的線路制作成具有特定形狀可透光的掩模，利用 曝光原理，使光源通過掩才^1影至硅晶片上，可曝光顯示特定的圖案。隨著大規(guī)模集成電路器件集成度的不斷提高，光刻分辨力的不斷增強，對 光刻機的特征線寬指標要求也在不斷提升。目前，光刻機已經發(fā)展成為幾個分以工件臺分系統(tǒng)為例，如何使Chuck微動臺在曝光過程中...
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