技術(shù)編號(hào)：2818775
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于微納米加工方法，涉及一種凹模熱壓印中應(yīng)用光刻膠整形改善填充和降低殘膠的方法。背景技術(shù)應(yīng)用納米壓印和反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)可以將復(fù)雜且昂貴的三維結(jié)構(gòu)高產(chǎn)出且低成本的復(fù)制到各種各樣的基底材料上。 熱壓印是納米壓印技術(shù)的一個(gè)分支，由St印hen Y. Chou于1995年首次提出并申請(qǐng)專利，參見(jiàn)專利US5772905 "Nanoimprint lithogr即hy"。相較于紫外壓印，熱壓印擁有很廣闊的聚合物選擇范圍，設(shè)備簡(jiǎn)單成本低，且對(duì)透明模板沒(méi)有要求，因此...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。