技術編號：2854703
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及等離子體處理系統(tǒng)中的射頻（RF）接地返回及其方法。本發(fā)明公開了用于以至少兩種模式操作等離子體處理工具的等離子體處理腔的方法和裝置。在第一模式，襯底支撐組件在間隙可調范圍內可移動以調節(jié)電極之間的間隙，從而適應不同的處理需求。在第一模式，只要間隙距離在間隙可調范圍內，RF接地返回路徑連續(xù)性便被保持而與間隙距離無關。在第二模式，襯底支撐組件能夠移動以進一步打開間隙從而容納無阻礙的襯底裝載/卸載。專利說明等離子體處理系統(tǒng)中的射頻(RF)接地返回及其方法 ...
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