技術(shù)編號(hào)：2866713
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。具有氣體腔室的高亮度離子源包括多個(gè)通道，其中，多個(gè)通道各自具有不同的氣體。使電子射束穿過通道之一以提供某些種類的離子用于處理樣本。能夠通過將電子引導(dǎo)到具有不同的氣體種類的另一個(gè)通道中并且利用第二種類的離子處理樣本來快速地改變離子種類。偏轉(zhuǎn)板用于將電子射束對(duì)準(zhǔn)到氣體腔室中，借此允許快速地切換聚焦離子射束中的氣體種類。專利說明多種類離子源 [0001]本發(fā)明涉及帶電粒子射束系統(tǒng)的離子氣體源的領(lǐng)域。 背景技術(shù) [0002]在半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用具有聚焦離子...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。