技術(shù)編號：2867976
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及，具體而言，半導(dǎo)體等離子體處理室的冷噴涂阻擋層涂布的部件包括具有至少一個金屬表面的襯底，其中所述金屬表面的部分被配置以形成電觸頭。冷噴涂阻擋涂層由導(dǎo)熱并導(dǎo)電材料制成，至少存在于所述襯底的被配置形成電觸頭的所述金屬表面上。此外，冷噴涂阻擋涂層也可位于所述部件的暴露于等離子體和/或暴露于處理氣體的表面上。專利說明 [0001] 本發(fā)明涉及半導(dǎo)體等離子體處理室的部件，并且更具體地涉及用于半導(dǎo)體等離子 體處理室的部件的阻擋涂層。 背景技術(shù) [0...
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