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等離子體處理裝置以及等離子體處理方法技術資料下載

技術編號:2895561

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本發(fā)明涉及一種對被處理體實施等離子體處理的等離子體處理裝置以及等離子 體處理方法,特別是涉及控制AC(An0deCath0de 陽極陰極)比的機構。背景技術等離子體電位具有比周圍電位更高的電位。例如,在被圖1所示的處理容器內的 壁側的區(qū)域Ca和載置臺側(晶圓側)區(qū)域Cc包圍的等離子體處理空間中,在偏置電位為 負的時刻(晶圓電位為負)的情況下,即晶圓電位比壁電位(即,接地電位)低的情況下, 等離子體電位變成比壁電位高出10 50V左右的電位。另一方面,在偏置...
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