技術編號：2895578
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及離子束的注入領域，特別涉及一種多模式離子注入機系統(tǒng)及注入方法。背景技術離子注入是一種把原子或分子引入目標工件襯底的制程，此制程通常被稱為摻 雜，它能改變材料的屬性。離子注入是一個在大規(guī)模集成電路的制造中常見的制程，離子注 入也可用于薄膜沉積等與制造光學儀器或顯示儀器(如平板顯示器)等相關的制造工藝。 一個典型的離子注入機包括一個產(chǎn)生離子束的離子源；一個離子束傳輸系統(tǒng)，它包括使用 磁場的離子束質(zhì)量分析系統(tǒng)；以及一個靶室，用于處理將植入離子束的半導體...
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