技術(shù)編號：2910379
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明通常涉及離子注入系統(tǒng)，更具體涉及用于在離子注入系統(tǒng)中產(chǎn)生經(jīng)質(zhì)量分析的帶狀離子束的對稱束線系統(tǒng)和方法。背景技術(shù) 在集成電路制造中，離子注入系統(tǒng)用于使用雜質(zhì)來摻雜半導(dǎo)體。在這種系統(tǒng)中，離子源離化期望的雜質(zhì)元素，所述雜質(zhì)元素以具有期望能量的離子束的形式從源中提取出來。離子束然后定向到半導(dǎo)體晶片的表面以便將雜質(zhì)元素注入晶片。束中的離子透過晶片的表面以形成具有期望導(dǎo)電性的區(qū)域(諸如在晶片中制造晶體管器件的過程中)。注入過程通常在高真空處理腔內(nèi)進(jìn)行，這防止了離子...
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