技術(shù)編號：2944812
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及真空蒸鍍裝置，其在真空氣氛中使從蒸發(fā)源放出的蒸發(fā)物質(zhì)堆積在被處理件(工件)表面上，從而涂敷保護(hù)膜。背景技術(shù) 電弧離子鍍(AIP)法是真空蒸鍍法的一種，是指在真空腔室內(nèi)設(shè)置蒸發(fā)源，使其作為陰極，在與陽極之間產(chǎn)生真空電弧放電，使陰極材料從蒸發(fā)源蒸發(fā)，將其堆積在收納于真空腔室內(nèi)的工件的表面上，從而在工件的表面上包覆了保護(hù)膜。作為實施該AIP法的真空蒸鍍裝置，在例如日本專利第3195492號公報中記載了以下裝置，其具有真空腔室、設(shè)于該真空腔室內(nèi)的桿狀蒸發(fā)...
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