技術編號：2979994
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種用于借助微波生成等離子體用來對襯底進行CVD涂層的裝置，其中，裝置具有反應氣體可被輸送到的真空箱和布置在其中的、與用于耦合輸入微波的裝置相連接的電導體。背景技術除了從實踐中公知的蒸發(fā)或濺射技術之外，也可以使用基于化學氣相沉積的涂層方法用于制造薄層。以下也將這樣的涂層方法稱作為CVD方法(來自英語chemical vapour deposition (化學氣相沉積))。由于來自氣相的化學反應而在襯底的所加熱的表面上沉積固體組分。至少一種氣體狀原...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。