技術(shù)編號(hào):3112326
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種離合器蓋成型工藝,其特征在于包括以下工藝步驟a、落料;b、壓中間凸臺(tái);c、四轉(zhuǎn)耳折彎;d、對(duì)應(yīng)兩轉(zhuǎn)耳R角整形;e、另兩轉(zhuǎn)耳R角整形;f、平面度整形;g、沖孔。本發(fā)明還公開了一種離合器蓋成型設(shè)備包括落料模、拉伸模、折彎模、第一整形模、第二整形模及沖孔模。本發(fā)明采用先拉后折的方式,能使離合器的厚度達(dá)到6.35mm,得到的離合器承載力達(dá)到10萬牛頓;同時(shí)采用帶R角的折彎方式,降低了材料折彎時(shí)斷裂的幾率,其折彎成功率達(dá)到99.3%;同時(shí)通過2次轉(zhuǎn)耳...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。