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技術(shù)編號：3245057

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本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體機(jī)臺的維護(hù)裝置，特別是涉及一種半導(dǎo)體機(jī)臺的 預(yù)防保養(yǎng)罩。背景技術(shù)在半導(dǎo)體制作工藝中，化學(xué)氣相沉積制作工藝所使用的沉積腔室一般來 說有水平式、垂直式及桶式等多種形式。以垂直式的沉積腔室來說，反應(yīng)氣 體由腔室的底部進(jìn)入腔室內(nèi)，在管內(nèi)與晶片產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)后，沉積一薄膜在 晶片上。然而，此反應(yīng)氣體除了會在晶片表面沉積一薄膜外，也會沉積在腔 室的內(nèi)壁，由于每一次沉積制作工藝所需要沉積的薄膜成份不盡相同，所以 必須按時清洗沉積腔室，以免沉積在管壁的化...
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