技術編號：3245468
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及處理氣體供給機構及處理氣體供給方法、以及具備這 種處理氣體供給機構的氣體處理裝置，其按照對收容在處理容器內(nèi)的平板顯示器(FPD)用的玻璃基板等被處理體實施規(guī)定的處理的方式向 處理容器內(nèi)供給處理氣體。背景技術在FPD的制造工藝過程中，為了對作為被處理體的FPD用的玻璃 基板實施蝕刻處理或成膜處理等規(guī)定的處理而使用著等離子體蝕刻裝 置或等離子體CVD成膜裝置等的等離子體處理裝置。在等離子體處理 裝置中， 一般情況下，玻璃基板是在被載置在處理容器內(nèi)的載...
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