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技術(shù)編號：3249512

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本發(fā)明通常涉及沉積金屬膜的方法和設(shè)備。更具體的，本發(fā)明涉及將鉭金屬膜沉積到表面和底材上的方法和設(shè)備。本發(fā)明可用于工 業(yè)加工，包括例如半導(dǎo)體芯片制作、金屬表面加工和拋光等工業(yè)應(yīng)用中。背景技術(shù)用于多種電子裝置的半導(dǎo)體芯片是用包括半導(dǎo)體、電介質(zhì)、 金屬、金屬氧化物和圖案化薄膜的材料制成的復(fù)合材料。例如，半導(dǎo)體 芯片互連需要芯片特征圖案(例如過孔(vias))的金屬沉積。目前，在半導(dǎo) 體制作過程中，用于制備例如擴(kuò)散障礙層和/或頂層的鉭膜(例如鉭金屬、 氮化鉭等)的...
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