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技術(shù)編號(hào)：3251398

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體元件的制造領(lǐng)域，尤其涉及一種可以有效率且均勻地清潔化學(xué)氣相沉積(chemical vapor deposition，CVD)設(shè)備的反應(yīng)器內(nèi)部的方法。背景技術(shù) 化學(xué)氣相沉積工藝在半導(dǎo)體工藝中扮演十分關(guān)鍵且吃重的角色，其主要是用來(lái)在半導(dǎo)體晶片的表面上沉積各種的材料薄膜，例如二氧化硅(silicon dioxide)、氮化硅(silicon nitride)等等。這些材料薄膜有可能用來(lái)作為集成電路的絕緣介電層或者保護(hù)層等。如本領(lǐng)域技術(shù)人員所知，在...
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