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技術(shù)編號：3251657

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本發(fā)明的具體實施例一般涉及基材處理系統(tǒng)，諸如物理氣相沉積系統(tǒng)?，F(xiàn)有技術(shù)物理氣相沉積系統(tǒng)(PVD)是最普遍用于制造電子裝置(如平面面板顯示器)的制程之一。PVD是在真空室內(nèi)施行的等離子體制程，其中一負(fù)偏壓的標(biāo)的物是曝露至一具有相對較重原子(如氬)的惰性氣體，或一包括含此惰性氣體的氣體混合物的等離子體中。藉由惰性氣體離子轟擊的標(biāo)的物導(dǎo)致標(biāo)的物材料原子的噴出。噴出的原子累積成為一在基材上的沉積膜，其中該基材是置于該室內(nèi)的標(biāo)的物下所放置的基材基座上。平面面板濺射與...
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