技術(shù)編號(hào)：3251974
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及例如在半導(dǎo)體處理用系統(tǒng)中，在半導(dǎo)體晶片等被處理基板上形成含有硅的絕緣膜的成膜方法和裝置。其中，所謂半導(dǎo)體處理，是指通過在晶片或者LCD(液晶顯示器)或者FPD(平板顯示器)用的玻璃基板等被處理基板上，以規(guī)定圖案形成半導(dǎo)體層、絕緣層、導(dǎo)電層等，而在該被處理基板上制造半導(dǎo)體器件或者含有與半導(dǎo)體器件連接的線路、電極等構(gòu)造物所進(jìn)行的各種處理。背景技術(shù) 在構(gòu)成半導(dǎo)體集成電路的半導(dǎo)體器件的制造中，在被處理基板(例如半導(dǎo)體晶片)上進(jìn)行成膜、蝕刻、氧化、擴(kuò)散、改...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。