技術(shù)編號：3257780
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明的示例性實施方式涉及一種在濺射操作中用作沉積源的分離靶裝置，并且涉及一種使用該分離靶裝置的濺射方法。背景技術(shù)通常，通過沉積處理(例如磁控濺射)來制作用于顯示裝置的薄膜晶體管(TFT)。也就是說，在沉積靶上進行濺射，以使得在顯示裝置的襯底上形成具有期望圖案的薄膜，其 中，該襯底是沉積靶目標。但是，隨顯示裝置屏幕尺寸的增加，為了使沉積靶具有與屏幕相同的尺寸，很難制作沉積靶。也就是說，TFT完全形成在顯示裝置的屏幕上，就此而言，為了使沉積靶具有與屏幕幾乎相...
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