技術(shù)編號(hào)：3262002
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及真空鍍膜設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種臥式滾筒真空鍍膜機(jī)。背景技術(shù)現(xiàn)有臥式滾筒真空鍍膜機(jī)的真空室絕大多數(shù)為一空心圓筒狀容器，電阻蒸發(fā)器、電子槍或磁控濺射靶都裝在真空室中央?yún)^(qū)域。因此工作中抽真空的體積為圓筒的容積。抽真空時(shí)間長、工作效率低。由于真空室內(nèi)易存在大量的壓縮可凝性水蒸氣，影響鍍膜產(chǎn)品質(zhì)量發(fā)明內(nèi)容 本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種可縮短抽真空時(shí)間且提高鍍膜質(zhì)量的臥式滾筒真空鍍膜機(jī)。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是提供一種臥式滾筒真空...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。