技術(shù)編號：3263945
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于真空物理氣相沉積應(yīng)用，尤其是涉及。背景技術(shù)物理氣相沉積技術(shù) 制備涂層是在真空條件下利用蒸發(fā)、濺射或弧光放電等過程將膜層沉積物的粒子定向沉積在基材表面形成鍍層的技術(shù)，現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中，成熟應(yīng)用的真空物理氣相沉積技術(shù)一般有蒸發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜與電弧離子鍍膜技術(shù)。隨著技術(shù)發(fā)展，通過施加電場、磁場等方法使得沉積鍍層的質(zhì)量和均勻性不斷提高，但往往工件整個外表面都會沉積到鍍層。在通常情況下，對于工件不需要沉積涂層區(qū)域的防護(hù)，一般采用金屬箔材等材料進(jìn)行遮蓋的方...
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