技術(shù)編號(hào)：3264263
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及濺射裝置。背景技術(shù) 以往，在形成光學(xué)薄膜或?qū)щ娦员∧さ雀鞣N薄膜時(shí)，使用以電阻加熱方式和電子束加熱方式為代表的真空蒸鍍法?？墒?，用真空蒸鍍法形成的膜通常致密性低，而且光學(xué)薄膜受溫度或濕度的影響，折射率易產(chǎn)生變化，有分光反射率特性變化的問題。作為提高膜的致密性的方法，知道的有一邊對(duì)襯底表面照射氧或氬的離子一邊形成膜的離子輔助蒸鍍法，但是在該方法中由于難以對(duì)大面積的襯底表面均勻地照射離子，因此很難提高蒸鍍速度，所以生產(chǎn)效率成為問題。因此，近年來使用濺射...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。