技術(shù)編號(hào)：3267032
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及真空鍍膜，尤其是涉及真空鍍膜用的エ件清洗結(jié)構(gòu)。背景技術(shù)隨后出現(xiàn)有物理氣相沉積(PVD)技術(shù)，主要是在真空環(huán)境下進(jìn)行表面處理，物理氣相沉積本身分為三種真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜，近十年來發(fā)展相當(dāng)快，已經(jīng)成為當(dāng)今最先進(jìn)的表面處理方式之一。真空鍍膜生產(chǎn)是實(shí)現(xiàn)膜層附著在エ件表面，以獲得需要的エ件表面特性，然而，在實(shí)際生產(chǎn)時(shí)，エ件表面都或多或少積累有污垢，這些污垢如不能有效除去，則會(huì)極大的影響膜層附著力，導(dǎo)致產(chǎn)品品質(zhì)下降。因而需要進(jìn)行清潔，...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。