技術(shù)編號：3277141
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及光學器件制造工具，特別是指一種鍍膜設(shè)備及靶材。背景技術(shù)近年來，在微電子，光學薄膜和材料表面處理領(lǐng)域中，磁控濺射技術(shù)作為一種有效的薄膜沉積方法，被普遍應用于薄膜沉積和表面覆蓋層制備，在工業(yè)生產(chǎn)和科學研究領(lǐng)域發(fā)揮了巨大作用。磁控濺射生成的薄膜厚度的均勻性是成膜的一項重要指標，在濺射鍍膜中，由于腔體入口只有一個，在氧化物半導體的制作中，從該腔體入口進入的氧氣通過靶材進行鍍膜時，導致所鍍膜層厚度不能成理想的均勻分布?，F(xiàn)有技術(shù)中的鍍膜裝置如圖1、2和3...
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