技術(shù)編號(hào)：3277186
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)，具體涉及一種用于提升PECVD鍍膜均勻性的裝置。背景技術(shù)太陽(yáng)能電池作為一種可以將太陽(yáng)輻射能直接轉(zhuǎn)化為電能的器件，已經(jīng)得到人們的認(rèn)可和關(guān)注，并在世界范圍內(nèi)迅速推廣和應(yīng)用。在晶體硅太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)過程中，需要在電池表面制作能夠減少光在硅片表面反射率的減反射膜，可以顯著提高晶體硅太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)化效率。目前的晶體硅太陽(yáng)能電池生產(chǎn)中制作減反射膜的設(shè)備一般采用管式PECVD鍍膜設(shè)備，在制作減反射膜的過程中，工藝氣體均采用沉積腔一端進(jìn)氣，...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。