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技術(shù)編號(hào)：3279732

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本發(fā)明涉及一種除去從成膜裝置等處理裝置排出的排氣氣體中的氣體狀雜質(zhì)的。背景技術(shù) 通常，為了形成IC等集成電路或邏輯元件，在半導(dǎo)體晶片、玻璃基板、LCD基板等表面上，反復(fù)地進(jìn)行形成所期望的薄薄膜的成膜工序或在其表面蝕刻成所期望的圖案的工序?？墒牵猿赡すば?yàn)槔?，在該工序中通過(guò)使規(guī)定的處理氣體(原料氣體)在處理容器內(nèi)反應(yīng)，在被處理體的表面上形成硅薄膜、硅的氧化物或氮化物薄膜、或金屬薄膜、金屬氧化物或氮化物薄膜等，但在進(jìn)行該成膜反應(yīng)的同時(shí)還產(chǎn)生多余的反應(yīng)副產(chǎn)物，...
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