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技術(shù)編號：3279737

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本發(fā)明涉及化學(xué)機(jī)械的平整(planarization)的裝置和方法，更具體地說，本發(fā)明涉及利用圓柱形拋光墊和墊調(diào)節(jié)器來進(jìn)行襯底平整。背景技術(shù) 化學(xué)機(jī)械平整(CMP)是廣泛使用的平整半導(dǎo)體襯底表面的方法。在CMP操作中通常會使用拋光墊。因此，需要以有效和高度可控的方式對拋光墊的狀況進(jìn)行調(diào)節(jié)。附圖說明在結(jié)合附圖閱讀了下面的詳細(xì)描述之后，可容易地理解本發(fā)明的實施例。為了便于該描述，用相同的標(biāo)號標(biāo)示相同的結(jié)構(gòu)零件。在附圖中僅是以舉例的方式說明本發(fā)明，而并非是對本發(fā)...
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