技術(shù)編號(hào)：3280464
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種真空鍍膜裝置。背景技術(shù)在真空鍍膜裝置中，通常將待鍍膜的基片放入真空室內(nèi)，并由安裝在基片承載部上的夾具對(duì)基片進(jìn)行夾持，然后由轉(zhuǎn)動(dòng)軸帶動(dòng)基片承載部轉(zhuǎn)動(dòng)，并由離子源對(duì)置放在鍍膜材料置放部的鍍膜材料進(jìn)行轟擊，使鍍膜材料濺射并均勻沉積在基片表面。但是在上述鍍膜過(guò)程中，鍍膜材料不僅被濺射到基片上，而且也會(huì)被濺射到基片承載部上，在多次鍍膜后基片承載部上就會(huì)沉積相當(dāng)多的鍍膜材料，使得鍍膜材料得不到充分地利用，這就造成了鍍膜材料的浪費(fèi)，同時(shí)，由于這些鍍膜材料通...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。