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技術(shù)編號(hào)：3281529

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本發(fā)明一般涉及半導(dǎo)體集成電路制造領(lǐng)域，更確切的說，本發(fā)明涉及一種。背景技術(shù)當(dāng)前，隨著半導(dǎo)體集成制造技術(shù)的不斷進(jìn)步，其性能得到不斷提升，同時(shí)也伴隨著器件小型化和微型化的集成進(jìn)程，半導(dǎo)體晶圓的平坦化工藝已經(jīng)成為半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中非常關(guān)鍵的技術(shù)，尤其是化學(xué)機(jī)械研磨技術(shù)(Chemical Mechanical Polishing,簡(jiǎn)稱CMP)得到了廣泛的應(yīng)用。在CMP研磨工藝中，承載平臺(tái)的輸入端口(PIN)、輸出端口(POUT)和HCLU中均裝有識(shí)別晶片(wafer...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。

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