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技術(shù)編號(hào)：3285071

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本發(fā)明公開了，該方法包含以下步驟第一步，首先將金屬催化劑基體放入化學(xué)氣相沉積（CVD）系統(tǒng)內(nèi)，在H2和Ar氣混合氣氛中進(jìn)行加熱和退火；第二步，利用不同碳源進(jìn)行高溫滲碳反應(yīng)；第三步，對(duì)樣品進(jìn)行緩慢加熱，這其中通大流量的氫氣進(jìn)行刻蝕。第四步，在氫氣刻蝕之后再用氬氣將CVD系統(tǒng)中的氫氣排盡，并將其迅速冷卻至室溫，偏析出均勻的石墨烯層。進(jìn)一步的，通過(guò)改變金屬催化劑基體的厚度、滲碳量、氫氣刻蝕量，可以精確控制石墨烯的層數(shù)。本發(fā)明工藝簡(jiǎn)單易操作，且和半導(dǎo)體工業(yè)兼容，能...
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