技術編號：3286048
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明公開了一種，包括如下步驟步驟1.深通孔刻蝕；步驟2.第一層阻擋層的形成；具體的為包括Ti層和TiN層，其中Ti層采用金屬物理濺射成膜方式形成，在Ti層的形成過程中，在襯底上施加一個變化的偏壓，所述偏壓由大到小逐步降壓直至Ti層完成；步驟3.退火處理；步驟4.通孔鎢填充；步驟5.鎢和第一層阻擋層刻蝕；步驟6.第二層阻擋層的形成。本發(fā)明能減少在濺射過程中高速鈦金屬離子對鈦層損傷，增加金屬鈦層和襯底的結合強度，達到提高阻擋層與襯底的粘結性。專利說明[000...
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