技術(shù)編號：3289180
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明公開了一種三維移動陰極磁控濺射靶，其主結(jié)構(gòu)包括支撐平臺、水平導(dǎo)軌、垂直導(dǎo)軌、垂直移動平臺、靶材支架。所述支撐平臺是用來承載所述垂直移動平臺和所述靶材支架并沿所述水平導(dǎo)軌運動。所述支撐平臺底部左右兩端各有兩個輪子可以沿導(dǎo)軌滾動，右端通過螺紋孔與一根水平的螺桿相連，水平螺桿控制所述支撐平臺的水平移動。中間部位固定所述垂直導(dǎo)軌及其電動控制裝置。對于大面積的復(fù)合曲面基材，由于真空室空間的限制，移動基材是不現(xiàn)實的，只靠一維的平面運動不能實現(xiàn)鍍膜的連續(xù)性和均勻性...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。