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技術(shù)編號(hào)：3315047

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本發(fā)明公開了一種TaN-Ag硬質(zhì)薄膜及其制備方法，TaN-Ag硬質(zhì)薄膜是以高純Ta靶和Ag靶為靶材，采用多靶共焦射頻反應(yīng)濺射法沉積在硬質(zhì)合金或陶瓷基體上得到的，薄膜分子式為TaN-Ag，厚度在1-3μm；沉積時(shí)，真空度優(yōu)于3.0×10-3Pa，以氬氣起弧，氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體，濺射氣壓0.3Pa、氬氮流量比10(2-5)；Ta靶功率為150-250W，Ag靶功率為0-40W且大于0。所得硬質(zhì)涂層綜合具備了高硬度，良好的耐磨性等優(yōu)良特點(diǎn)。專利說明 [0001...
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