技術(shù)編號(hào)：3315703
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種應(yīng)用于薄膜沉積技術(shù)的氣體分配器，在本體內(nèi)設(shè)有由二組分別平行設(shè)置的若干氣體分配管之間按水平交錯(cuò)方向相互連通形成的氣體分配網(wǎng)絡(luò)，各氣體分配管之間從網(wǎng)絡(luò)中心向外側(cè)方向橫截面積依次對(duì)稱縮小，并在各氣體分配管的下方管壁均勻設(shè)有向本體下表面通出的出氣管，使從網(wǎng)絡(luò)中心位置的進(jìn)氣管通入的反應(yīng)氣體或蒸汽可由出氣管垂直均勻地吹向所覆蓋的硅片表面，并可使吹掃氣體容易將位于網(wǎng)絡(luò)邊緣位置的氣體分配管內(nèi)的殘留氣體吹掃干凈，不但可以提高通入氣體的均勻性，提高反應(yīng)及吹掃效...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。