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技術(shù)編號：3317009

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本發(fā)明公開一種化學(xué)機(jī)械拋光墊，解決了現(xiàn)有拋光墊容易擦傷，拋光效率低的問題。技術(shù)方案至少包括有拋光層，所述拋光層的拋光面上開有多個(gè)孔，以所述拋光面的中心為圓心，所述多個(gè)孔排列成多排不同徑長的同心的圓環(huán)；并且，以拋光面的中心為端點(diǎn)，均勻散射出多條延至拋光面邊緣的溝槽；所述拋光面的表面粗糙度處于15μm以下。本發(fā)明拋光墊結(jié)構(gòu)簡單、能有效提高拋光去除效率且能抑制擦傷產(chǎn)生、使用壽命長。專利說明化學(xué)機(jī)械拋光墊 [0001]本發(fā)明涉及一種化學(xué)機(jī)械平面化處理用拋光墊...
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